Wyznaczenie metodą BET powierzchni
właściwej sproszkowanego żelaza/ metalicznego niklu
jest możliwe przy zastosowaniu gazowego CO w temperaturze otoczenia
nie jest możliwe gdy tworzą się silne wiązania chemiczne między adsorbantem a adsorbentem
jest trudne ze względu na tworzenie się pokrycia wielowarstwowego
Może polegać na pomiarze ilości zaadsorbowanego argonu w niskich temperaturach
polega na pomiarze ciśnienia zaadsorbowanego obojętnego gazu w niskiej temperaturze
oparte jest na założeniu stałości powierzchni zajmowanej przez cząsteczkę gazu na powierzchni
polega na pomiarze ilości zaadsorbowanego obojętnego gazu w funkcji jego ciśnienia
nie jest możliwe gdy tworzą się silne wiązania chemiczne między adsorbantem a adsorbentem
Może polegać na pomiarze ilości zaadsorbowanego argonu w niskich temperaturach
oparte jest na założeniu stałości powierzchni zajmowanej przez cząsteczkę gazu na powierzchni
polega na pomiarze ilości zaadsorbowanego obojętnego gazu w funkcji jego ciśnienia
Proces adsorpcji z roztworu (na powierzchni ciała stałego)
Biegnie stosunkowo wolno, co wynika z konieczności usunięcia otoczki solwatacyjnej
Biegnie wolniej niż adsorpcja z fazy gazowej z powodu konieczności usunięcia otoczki solwatacyjnej
Prowadzi do powstania na powierzchni ciała stałego warstw Langmuira-Blodget
Daje się opisać identycznym równaniem izotermy jak dla adsorpcji gazu w ciele stałym
Może prowadzić do powstania na powierzchni ciała stałego monowarstw o uporządkowanej strukturze
Daje się opisać izotermą Freundlicha
Biegnie stosunkowo wolno, co wynika z konieczności usunięcia otoczki solwatacyjnej
Biegnie wolniej niż adsorpcja z fazy gazowej z powodu konieczności usunięcia otoczki solwatacyjnej
Daje się opisać identycznym równaniem izotermy jak dla adsorpcji gazu w ciele stałym
Może prowadzić do powstania na powierzchni ciała stałego monowarstw o uporządkowanej strukturze
Ładunek elektryczny na powierzchni mikrometrowych ziaren ditlenku cyrkonu w wodnym roztworze NaNO3
Można wyznaczyć mierząc szybkość przemieszczania się ziaren ZrO2 w polu elektrycznym
Zmniejsza szybkość sedymentacji zawiesiny
Jeśli jest odpowiednio wysoki to zmniejsza szybkość sedymentacji zawiesiny w tym roztworze
Zależy od stężenia NaNO3 w roztworze
Jest funkcją stężenia zawiesiny
Można wyznaczyć mierząc rozproszenie światła przez zawiesinę
Można wyznaczyć mierząc szybkość przemieszczania się ziaren ZrO2 w polu elektrycznym
Zmniejsza szybkość sedymentacji zawiesiny
Zależy od stężenia NaNO3 w roztworze
Ładunek elektryczny na powierzchni mikrometrowych ziaren tlenku glinu w wodnym
roztworze KNO3
Można wyznaczyć mierząc rozpraszanie światła przez zawiesinę
Zależy od stężenia roztworu (KNO3)
Zmniejsza szybkość sedymentacji zawiesiny
Zależy od stężenia roztworu (KNO3)
Zmniejsza szybkość sedymentacji zawiesiny
Krytyczne stężenie micelizacji dla wodnego roztworu SDS (dodecylosiarczanu sodowego) wynosi 134 mmol/L, a zatem
W zakresie stężeń 50-120 mmol/L ilość cząsteczek SDS na jednostkę swobodnej powierzchni roztworu jest stała
Napięcie powierzchniowe ma stałą wartość dla stężeń SDS powyżej 150 mmol/L
W zakresie stężeń SDS 0-50 mmol/L stężenie miceli jest praktycznie stałe
Napięcie powierzchniowe ma stałą wartość dla stężeń SDS powyżej 150 mmol/L
W zakresie stężeń SDS 0-50 mmol/L stężenie miceli jest praktycznie stałe
Krytyczne stężenie micelizacji dla wodnego roztworu SDS (dodecylosiarczanu sodowego)
wynosi 8,14 mmol/L. A zatem:
W zakresie stężeń SDS poniżej 8,14 mmol/L napięcie powierzchniowe ma wartość stałą
Do wartości 8,14 mmol/L stężenie miceli rośnie ze stężeniem SDS, a potem przyjmuje wartość stałą
W zakresie stężeń 10-20 mmol/L ilość cząsteczek SDS na jednostkę swobodnej powierzchni z roztworu jest stała
W zakresie stężeń 10-20 mmol/L ilość cząsteczek SDS na jednostkę swobodnej powierzchni z roztworu jest stała
Warstwy Langmuira
Mają grubość nie większą niż kilka nanometrów
Tworzą się jedynie/ogółem z substancji, których cząsteczki ulegają całkowitej dysocjacji/solwatacji w wodzie
Tworzą się na powierzchni wody z cząsteczek o polarnym charakterze/niepolarnych/
Można osadzać na stałych podłożach i uzyskiwać warstwy o wysokim stopniu uporządkowania
Tworzą się na powierzchni wody z cząsteczek o charakterze amfifilowym
Mają grubość nie większą niż kilka nanometrów
Można osadzać na stałych podłożach i uzyskiwać warstwy o wysokim stopniu uporządkowania
Tworzą się na powierzchni wody z cząsteczek o charakterze amfifilowym
Dla wodnych roztworów alkoholu n-propylowego
Stężenie alkoholu przy granicy faz gaz/ciecz jest wyższe niż w objętości
Nadmiar powierzchniowy alkoholu można policzyć z izotermy Gibbsa (chyba)
Napięcie powierzchniowe jest wyższe niż dla czystej wody
Nadmiar powierzchniowy alkoholu można policzyć z izotermy Henry’ego
Napięcie powierzchniowe zmniejsza się nieliniowo ze wzrostem stężenia alkoholu
Dla wysokich stężeń alkoholu napięcie powierzchniowe jest stałe
Stężenie alkoholu przy granicy faz gaz/ciecz jest wyższe niż w objętości
Nadmiar powierzchniowy alkoholu można policzyć z izotermy Gibbsa (chyba)
Dla wysokich stężeń alkoholu napięcie powierzchniowe jest stałe
Bardzo powolne chłodzenie stopionego krzemu/germanu do temperatury poniżej temperatury
topnienia
W większości przypadków spowoduje powstanie polikrystalicznej fazy stałej
Spowoduje powstanie fazy stałej o strukturze amorficznej
W sprzyjających warunkach umożliwi powstanie monokryształu germanu
Spowoduje powstanie fazy stałej jedynie w przypadku wprowadzenia zarodków krystalizacji
W większości przypadków spowoduje powstanie polikrystalicznej fazy stałej
W sprzyjających warunkach umożliwi powstanie monokryształu germanu
nie wiadomo z tymi niepoprawnymi
Warstwy Langmuira-Blodgett
Mogą być wytworzone z koloidalnej zawiesiny czystego złota (tzw. purpury Kasjusza)/z czystego złota oraz stopu irydu z platyną/ z cząsteczek alkanów o długich łańcuchach alifatycznych (n≥20)
Są powszechnie stosowane w produkcji elementów składowych komputerów domowych
Charakteryzują się wysokim stopniem uporządkowania krystalicznego/uporządkowania cząsteczek
Powstają przez naniesienie warstw Langmuira na płaskie podłoże
Mogą się tworzyć na powierzchni rozpuszczalników polarnych z cząsteczek o polarnym charakterze
Nie mogą mieć grubości większej od kilku nm
Charakteryzują się wysokim stopniem uporządkowania krystalicznego/uporządkowania cząsteczek
Powstają przez naniesienie warstw Langmuira na płaskie podłoże
Ciśnienie elektroosmotyczne
jest podstawą metody elektroanalitycznej EOS – elektrospektroskopia osmotyczna
/Rośnie proporcjonalnie do kwadratu natężenia pola elektrycznego
zmienia się ze składem roztworu w kapilarze
Wytworzone w kapilarach o większej średnicy jest większe
Zależy od materiału, z którego zbudowana jest kapilara
Jest wykorzystywane do wywoływania przepływu cieczy w urządzeniach mikroprzepływowyc
Wytworzone w kanałach o mniejszej średnicy niż większe
zmienia się ze składem roztworu w kapilarze
Zależy od materiału, z którego zbudowana jest kapilara
Jest wykorzystywane do wywoływania przepływu cieczy w urządzeniach mikroprzepływowyc
Wytworzone w kanałach o mniejszej średnicy niż większe
Wyznaczenie powierzchni właściwej sproszkowanego metalicznego niklu
Jest możliwe przy zastosowaniu gazowego CO w temperaturze otoczenia
Może polegać na pomiarze ilości zaadsorbowanego argonu w niskich temperaturach
Jest trudne ze względu na skłonność metali do tworzenia wielowarstwowych pokryć
Może polegać na pomiarze ilości zaadsorbowanego argonu w niskich temperaturach
Entalpia swobodna zarodka o rozmiarach krytycznych
Nie zależy od wartości energii powierzchniowej fazy kondensującej
Wpływa na wartość ciśnienia, przy którym pojawiają się pierwsze obserwowane zarodki nowej fazy
Maleje ze wzrostem przesycenia (przechłodzenia) w danych warunkach
Wpływa na wartość ciśnienia, przy którym pojawiają się pierwsze obserwowane zarodki nowej fazy
Maleje ze wzrostem przesycenia (przechłodzenia) w danych warunkach
Pokazana zależność ilości adsorbatu od ciśnienia
Jest charakterystyczna dla układu, w którym może występować histereza adsorpcji
Jest charakterystyczna dla pokrycia wielowarstwowego
Jest charakterystyczna dla układu, w którym może występować histereza adsorpcji
Jest charakterystyczna dla pokrycia wielowarstwowego
Właściwości hydrofilowo-lipofilowe surfaktanta
Wpływają na temperaturę przejścia danej emulsji O/W w emulsję W/O
Nie wpływają na jego rozpuszczalność w wodzie/ Nie mają związku z jego rozpuszczalnością w wodzie (wszystkie środki czynne powierzchniowo są dobrze rozpuszczalne)
Wpływają na strukturę powstających miceli
Dają się w przybliżeniu określić na podstawie chemicznej budowy cząsteczki/surfanktanta
Wpływają na temperaturę przejścia danej emulsji O/W w emulsję W/O
Wpływają na strukturę powstających miceli
Dają się w przybliżeniu określić na podstawie chemicznej budowy cząsteczki/surfanktanta
Równanie izotermy Langmuira
Nadaje się zarówno do opisu adsorpcji fizycznej jak i chemicznej przy niskich stopniach pokrycia
Jest wyprowadzone przy założeniu rosnącej w czasie ilości centrów aktywnych na powierzchni ciała stałego
Dobrze opisuje przypadki pokrycia wielowarstwowego w niskich temperaturach
Powierzchnia ciała stałego posiada określoną ilość miejsc – centrów aktywnych
Nadaje się zarówno do opisu adsorpcji fizycznej jak i chemicznej przy niskich stopniach pokrycia
Powierzchnia ciała stałego posiada określoną ilość miejsc – centrów aktywnych
Pokazana na rysunku zależność ilości adsorbatu od ciśnienia
(do góry i płasko)
Świadczy o histerezie procesu adsorpcji
Daje się opisać izotermą BET/Langmuira
Jest charakterystyczna dla pokrycia wielowarstwowego
Jest charakterystyczna dla pokrycia jednoarstwowego
Daje się opisać izotermą BET/Langmuira
Jest charakterystyczna dla pokrycia jednoarstwowego
Pokazana zależność
adsorbatu od ciśnienia
jest charakterystyczna dla pokrycia wielowarstwowego
daje sie opisac izotermą BET
świadczy o histerezie procesu adsorpcji
daje się opisać izotermą Freundlicha
jest charakterystyczna dla pokrycia wielowarstwowego
daje sie opisac izotermą BET
Średni czas przebywania cząsteczki na
powierzchni danej próbki ciała stałego (czas
adsorpcji)
jest wyższy dla adsorpcji chemicznej a niższy dla adsorpcji fizycznej w tej samej temperaturze
Jest wartością niezbędną do wyznaczania powierzchni właściwej
maleje ze wzrostem ciepła adsorpcji
niezależnie od warunków może zawsze zmieniać się tylko w wąskich granicach (od 1 do 10 sekund)
daje się przeliczyć na wartość powierzchni właściwej
maleje ze wzrostem temperatury układu
jest funkcją ciepła adsorpcji i temperatury
rośnie ze wzrostem ciepła adsorpcji
jest wyższy dla adsorpcji chemicznej a niższy dla adsorpcji fizycznej w tej samej temperaturze
maleje ze wzrostem temperatury układu
jest funkcją ciepła adsorpcji i temperatury
rośnie ze wzrostem ciepła adsorpcji
Wyznaczenie metodą BET powierzchni
właściwej węgla aktywnego
Byłoby możliwe przy zastosowaniu gazowego amoniaku
Jest typowo wykonywane z wykorzystaniem azotu w niskiej temperaturze
Jest trudne ze względu na wytworzenie się pokrycia wielowarstwowego
Byłoby możliwe przy zastosowaniu gazowego amoniaku
Jest typowo wykonywane z wykorzystaniem azotu w niskiej temperaturze